真空氣氛燒結爐
真空氣氛燒結爐是一種用于高溫處理材料的加熱設備，結合了真空環境和氣氛控制功能。它通常用于陶瓷、粉末冶金、金屬制造等領域中的燒結工藝，能夠在特定的氣氛條件下對材料進行燒結，以實現材料的致密化、結晶化或合金化等目的。溫度區間選擇從400-2000℃，真空度不大于0.001pa.
主要特點包括：
真空環境：?真空氣氛燒結爐能夠在真空環境下進行加熱處理。通過排除爐腔內的氧氣和其他氣體，可以防止材料氧化、脫氣等反應，提高材料的純度和質量。
氣氛控制：?除了真空環境，真空氣氛箱式爐還可以控制氣氛環境，如氮氣、氬氣等惰性氣體環境。這有助于控制材料的化學反應、脫氣和純度。
高溫加熱：?真空氣氛箱式爐通常能夠提供高溫加熱，可以達到空氣下最高2000℃的溫度（鎢加熱）。這使得它們適用于高溫處理需要的材料，如金屬、陶瓷、玻璃等。
精確控制：?真空氣氛箱式爐通常配備高精度的溫度控制系統，可以精確控制加熱過程的溫度、壓力和氣氛組成，以滿足不同材料加熱處理的需求。
真空度：真空氣氛燒結爐由于其結構的特性，可以承載更高的壓力和真空度，其一般可滿足0.001Pa的正負氣壓。在爐膛真空的基礎上，通入氣氛，使燒結環境更加的純凈。
氣路和流量：真空氣氛箱式爐標配有2路標準進氣，包含有浮球流量計和指針壓力表。可在其基礎上進行功能和產品擴充。
真空泵機組：真空爐標配有機械旋片泵（可滿足真空0.1Mpa）,同時為了滿足更高的真空需求，可定制羅茨泵及擴散泵及分子泵機組。
可擴展性：控制方式定制：由傳統的國產儀表PID控制，可定制進口儀表或PLC控制。多種選擇可滿足不同客戶的使用習慣。
爐門開啟方式：傳統開啟方式為側開，可定制開門方向及開啟方式，手動，半自動，自動化一應俱全。
多面加熱：根據爐膛大小，在盡可能保證爐溫均勻性的同時，額外提供多面加熱選擇，可滿足更高爐溫均勻性的要求。
多點控溫：根據不同的使用場景要求，可供客戶選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
排氣口和氣路：可根據客戶使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計等，以滿足客戶對于工藝的要求。
觸摸屏控制：可根據市場上現有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統，報表，數據，可實時觀察下載。
標準規格：
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規格 |
爐膛尺寸（mm） |
加熱元件 |
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STR-VSF |
300×200×200 |
硅碳棒，硅鉬棒，鉬片，鎢片等 |
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400×250×250 |
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500×300×300 |
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600×400×400 |
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800×500×500 |
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| 備注： |
1. 設備規格基于標準規格書寫，特殊規格依然可定制。 2. 設備的溫度需求不同，則會考慮使用不同的加熱元件。 3. 真空和氣氛會影響發熱元件的使用效率，針對不同的氣氛發熱元件的溫度會存在一定差異。（具體情況可聯系詢問） |
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