真空氣氛箱式爐是一種高溫處理設備，結合了真空環境和氣氛控制功能。它通常用于燒結、退火、熱處理等工藝，能夠在控制的氣氛條件下對材料進行加熱處理。溫度區間選擇從400-1800℃，真空度不大于0.1Mpa.
主要特點包括：

箱式結構：?真空氣氛箱式爐的外形類似一個箱子，內部空間用于放置待處理的材料樣品。箱式結構設計使得它適用于加工較大量的樣品。
真空環境：?真空氣氛箱式爐能夠在真空環境下進行加熱處理。通過排除爐腔內的氧氣和其他氣體，可以防止材料氧化、脫氣等反應，提高材料的純度和質量。
氣氛控制：?除了真空環境，真空氣氛箱式爐還可以控制氣氛環境，如氮氣、氬氣等惰性氣體環境。這有助于控制材料的化學反應、脫氣和純度。
高溫加熱：?真空氣氛箱式爐通常能夠提供高溫加熱，可以達到空氣下最高1800℃的溫度。這使得它們適用于高溫處理需要的材料，如金屬、陶瓷、玻璃等。
精確控制：?真空氣氛箱式爐通常配備高精度的溫度控制系統，可以精確控制加熱過程的溫度、壓力和氣氛組成，以滿足不同材料加熱處理的需求。
真空度：真空氣氛箱式爐由于其結構的特性，無法承載過于高的壓力和真空度，其一般可滿足0.1Mpa的正負氣壓。在爐膛真空的起初上，通入氣氛，使燒結環境更加的純凈。
氣路和流量：真空氣氛箱式爐標配有2路標準進氣，包含有浮球流量計和指針壓力表。可在其基礎上進行功能和產品擴充。
可擴展性：控制方式定制：由傳統的國產儀表PID控制，可定制進口儀表或PLC控制。多種選擇可滿足不同客戶的使用習慣。
爐門開啟方式：傳統開啟方式為側開，可定制開門方向及開啟方式，手動，半自動，自動化一應俱全。
多面加熱：根據爐膛大小，熔科在盡可能保證爐溫均勻性的同時，額外提供多面加熱選擇，可滿足更高爐溫均勻性的要求。
多點控溫：根據不同的使用場景要求，可供客戶選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
排氣口和氣路：可根據客戶使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計等，以滿足客戶對于工藝的要求。
觸摸屏控制：熔科可根據市場上現有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統，報表，數據，可實時觀察下載。

標準規格

規格	爐膛尺寸（mm）	電壓	功率	發熱元件
STR-AM	200×150×150	220V	4KW	U型硅碳棒
	300×200×200	380V	8KW	U型硅碳棒
	300×300×300	380V	12KW	U型硅碳棒
	500×300×200	380V	15KW	U型硅碳棒
	500×300×300	380V	18KW	U型硅碳棒
	600×400×400	380V	24KW	U型硅碳棒
	800×500×500	380V	35KW	U型硅碳棒
備注	1. 功率數據以1200攝氏度為例，更高溫度發熱元件選擇有所變化。 2. 真空氣氛會影響發熱元件的發熱效率，從而影響使用溫度。 3.功率電壓等為參考值，具體以實際提供技術參數為準。

真空氣氛箱式爐在材料科學、金屬加工、陶瓷制備等領域具有廣泛的應用，能夠提供穩定、可控的加熱環境，有助于實現材料的特定性能和結構的調控。需要額外注意的是，如果空氣中的使用溫度為1700℃的高溫爐，在不同的氣氛和真空度下，其使用溫度會有變化。詳情可咨詢。